Chemical Vapor Deposition


0948-1907
ISSN
1521-3862
e-ISSN
1995 تا 2015
مدت فعالیت
Wiley-Blackwell
ناشر
onlinelibrary.wiley.com
سایت مجله

ISI

آخرین بروز رسانی مارس ۲۰۲۳
مجله در فهرست مجلات ISI نیست.

Scopus

آخرین بروز رسانی فوریه ۲۰۲۲

این مجله در فهرست مجلات Scopus قرار دارد و با نام Chemical Vapor Deposition ثبت شده است. بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:

برای فرستادن دیدگاه باید وارد شوید