تفاوت تاریخ بروزرسانی در صورت داشتن اشتراک
| نمایه | آخرین بروز رسانی |
|---|---|
| Scopus | فوریه ۲۰۲۲ |
| ISI | مارس ۲۰۲۳ |
| SCImago | ژانویه ۲۰۲۰ |
| ISI Open Access Journals | مارس ۲۰۲۴ |
| لیست سیاه وزارت علوم | فروردین ۱۴۰۲ |
| لیست سیاه وزارت بهداشت | فروردین ۱۴۰۲ |
| لیست سیاه دانشگاه آزاد | بهمن ۱۳۹۹ |
| مجلات دارای زمان داوری | ژانویه ۲۰۲۲ |
| مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش | ژانویه ۲۰۲۲ |
| فراخوانهای مقاله | فوریه ۲۰۲۴ |
| نمایه | آخرین بروز رسانی |
|---|---|
| Scopus | ژانویه ۲۰۲۴ |
| ISI | آپریل ۲۰۲۴ |
| SCImago | می ۲۰۲۴ |
| ISI Open Access Journals | مارس ۲۰۲۴ |
| لیست سیاه وزارت علوم | فروردین ۱۴۰۳ |
| لیست سیاه وزارت بهداشت | فروردین ۱۴۰۳ |
| لیست سیاه دانشگاه آزاد | آذر ۱۴۰۱ |
| مجلات دارای زمان داوری | ژانویه ۲۰۲۴ |
| مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش | ژانویه ۲۰۲۴ |
| فراخوانهای مقاله | فوریه ۲۰۲۴ |
Applied Spectroscopy
ناشری با نام مشابه ناشر این مجله در لیست سیاه مجلات خارجی دانشگاه آزاد قرار دارد. | |
| sage | ناشر (ثبت شده در لیست سیاه دانشگاه آزاد) |
ادامه مقادیر جدول مربوط به پایگاه داده های بین المللی است. | |
| آمریکا | کشور |
| ۲٫۳۸۸ | Impact Factor |
| 0003-7028 | ISSN |
| 1943-3530 | e-ISSN |
| 1970 تا کنون | مدت فعالیت |
| SAGE | ناشر |
| journals.sagepub.com | سایت مجله |
ISI
آخرین بروز رسانی مارس ۲۰۲۳
Scopus
آخرین بروز رسانی فوریه ۲۰۲۲
این مجله در فهرست مجلات Scopus قرار دارد بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:
رتبه مجله در رشته تخصصی در پایین جدول بخش سایمگو نشان داده شده است.
SCImago
آخرین بروز رسانی ژانویه ۲۰۲۰
بر اساس دسته بندی این بنیاد این مجله در دسته Q2 قرار دارد
رشته تخصصی و رتبه مجله در آن رشته:
اهداف مجله
Applied Spectroscopy یک مجله بین المللی با داوری همتا برای انتشار مقالات تحقیقی و مروری اصلی است که تمام جنبه های طیف سنجی را پوشش می دهد. این مجله با هدف اصلی آن انتشار مقالاتی در زمینه مبانی و کاربردهای طیف‌سنجی مبتنی بر فوتون است. اینها شامل، اما نه محدود به، جذب ماوراء بنفش مرئی است. فلورسانس و فسفرسانس؛ مادون قرمز میانی، رامان، مادون قرمز نزدیک، تراهرتز، مایکروویو و جذب اتمی. انتشار؛ طیف سنجی شکست ناشی از لیزر (و ICP-MS)؛ و همچنین تکنیک های خط خطی و میان رشته ای پیشرفته.