با توجه به سطح اشتراک شما تمامی داده های مربوط به مجلات، قدیمی است. برای تهیه اشتراک و دریافت اطلاعات بیشتر در خصوص سطح بندی امکانات سایت کلید کنید. برای مشاهده تفاوت تاریخ بروزرسانی هر بخش در دو حالت مذکور

تفاوت تاریخ بروزرسانی در صورت داشتن اشتراک

نمایه	آخرین بروز رسانی
Scopus	فوریه ۲۰۲۲
ISI	مارس ۲۰۲۳
SCImago	ژانویه ۲۰۲۰
ISI Open Access Journals	مارس ۲۰۲۴
لیست سیاه وزارت علوم	فروردین ۱۴۰۲
لیست سیاه وزارت بهداشت	فروردین ۱۴۰۲
لیست سیاه دانشگاه آزاد	بهمن ۱۳۹۹
مجلات دارای زمان داوری	ژانویه ۲۰۲۲
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش	ژانویه ۲۰۲۲
فراخوانهای مقاله	فوریه ۲۰۲۴

نمایه	آخرین بروز رسانی
Scopus	ژانویه ۲۰۲۴
ISI	آپریل ۲۰۲۴
SCImago	می ۲۰۲۴
ISI Open Access Journals	مارس ۲۰۲۴
لیست سیاه وزارت علوم	فروردین ۱۴۰۳
لیست سیاه وزارت بهداشت	فروردین ۱۴۰۳
لیست سیاه دانشگاه آزاد	آذر ۱۴۰۱
مجلات دارای زمان داوری	ژانویه ۲۰۲۴
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش	ژانویه ۲۰۲۴
فراخوانهای مقاله	فوریه ۲۰۲۴

Journal Of Laser Applications

آمریکا	کشور
۱٫۶۳۶	Impact Factor
1042-346X	ISSN
1938-1387	e-ISSN
1988 تا کنون	مدت فعالیت
Laser Institute of America	ناشر
lia.scitation.org	سایت مجله

توجه: با توجه به سطح کاربری شما اطلاعات نمایش داده شده قدیمی است

ISI

آخرین بروز رسانی مارس ۲۰۲۳

این مجله در فهرست مجلات ISI وجود دارد و در نمایه استنادی SCIE ثبت شده است علاوه بر آن در پایگاه داده Current Contents مجلات ISI در دو دسته بندی ثبت شده است. این دسته بندی ها عبارتند از:

Electronics & Telecommunications Collection
Engineering, Computing & Technology

یکی دیگر از پایگاه داده های مهم مجلات ISI، پایگاه داده ESI (لبه فناوری) است که این مجله در این پایگاه داده نیز ثبت شده است این مجله در لیست سالانه JCR ذکر شده است. بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:

Scopus

آخرین بروز رسانی فوریه ۲۰۲۲

این مجله در فهرست مجلات Scopus قرار دارد بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:

رتبه مجله در رشته تخصصی در پایین جدول بخش سایمگو نشان داده شده است.

مجلات علوم فیزیکی مجلات فیزیک و نجوم مجلات ابزار دقیق مجلات مهندسی مجلات مهندسی پزشکی مجلات فیزیک اتمی و مولکولی و اپتیک مجلات علم مواد مجلات مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی

SCImago

آخرین بروز رسانی ژانویه ۲۰۲۰

بر اساس دسته بندی این بنیاد این مجله در دسته Q2 قرار دارد

SJR	0.549
h-index (اچ ایندکس)	52
Total Documents (مقالات چاپ شده در یک دوره)	93
Total Documents (3 years) ( مقالات چاپ شده سه سال گذشته)	371
Total References (همه مراجع موجود در مقالات)	2788
Total Cites (3years) (همه مرجع دهی ها سه سال گذشته)	692
Citable Documents (3 years) (مقالات قابل مرجع دهی سه سال گذشته)	368
Cites per Document (2 years) (مرجع دهی به هر مقاله دو سال گذشته)	1.7
References per Document (متوسط مراجع یک مقاله چاپ شده)	29.98

رشته تخصصی و رتبه مجله در آن رشته:

اهداف مجله

مجله کاربردهای لیزر (JLA) بستر علمی موسسه لیزر آمریکا (LIA) است و با همکاری انتشارات AIP منتشر می شود. مقالات با کیفیت بالا طیف گسترده ای از تحقیق و توسعه اساسی و کاربردی تا کاربردهای صنعتی را پوشش می دهند. بنابراین، JLA بازتابی از وضعیت تحقیق و توسعه در تولید، سنجش و اندازه‌گیری فوتونیک و همچنین ایمنی لیزر است.
دانشمندان درجه یک بین المللی و مشهور زیر به عنوان ویراستاران اختصاص داده شده در 9 دسته جدید خدمت می کنند:

پردازش مواد با دقت بالا با لیزرهای فوق سریع
تولید افزودنی لیزر
پردازش مواد با قدرت بالا با لیزرهای با روشنایی بالا
کاربردهای نوظهور فناوری های لیزر در مصالح و سازه های با کارایی بالا/چند کارکردی
اصلاح سطح
لیزر در تولید نانو / نانوفتونیک و فناوری لایه نازک
طیف سنجی / تصویربرداری / تشخیص / اندازه گیری
سیستم ها و بازارهای لیزری
کاربردهای پزشکی و ایمنی
حمل و نقل حرارتی
نانومواد و نانوفرآوری
کاربردهای لیزر در میکروالکترونیک