تفاوت تاریخ بروزرسانی در صورت داشتن اشتراک

نمایه آخرین بروز رسانی
Scopus فوریه ۲۰۲۲
ISI مارس ۲۰۲۳
SCImago ژانویه ۲۰۲۰
ISI Open Access Journals دسامبر ۲۰۲۴
لیست سیاه وزارت علوم فروردین ۱۴۰۲
لیست سیاه وزارت بهداشت فروردین ۱۴۰۲
لیست سیاه دانشگاه آزاد بهمن ۱۳۹۹
مجلات دارای زمان داوری ژانویه ۲۰۲۲
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش ژانویه ۲۰۲۲
فراخوانهای مقاله مارس ۲۰۲۵
آمار دانلود مقالات هر مجله ژانویه ۲۰۲۲
نمایه آخرین بروز رسانی
Scopus فوریه ۲۰۲۵
ISI فوریه ۲۰۲۵
SCImago می ۲۰۲۴
ISI Open Access Journals دسامبر ۲۰۲۴
لیست سیاه وزارت علوم اسفند ۱۴۰۳
لیست سیاه وزارت بهداشت فروردین ۱۴۰۳
لیست سیاه دانشگاه آزاد تیر ۱۴۰۲
مجلات دارای زمان داوری دسامبر ۲۰۲۴
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش دسامبر ۲۰۲۴
فراخوانهای مقاله مارس ۲۰۲۵
آمار دانلود مقالات هر مجله دسامبر ۲۰۲۴

Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS


آمریکا
کشور
۱٫۲۲
Impact Factor
1932-5150
ISSN
1932-5134
e-ISSN
2007 تا کنون
مدت فعالیت
SPIE
ناشر
www.spiedigitallibrary.org
سایت مجله

ISI

آخرین بروز رسانی مارس ۲۰۲۳
مجله در فهرست مجلات ISI نیست.

اهداف مجله

مجله Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) مقالاتی را در مورد فناوری‌های توانمندساز هسته‌ای منتشر می‌کند که به نیازهای الگوبرداری صنعت الکترونیک می‌پردازد. حوزه‌های موضوعی کلیدی شامل علم، توسعه، و عمل فن‌آوری‌های لیتوگرافی، محاسباتی، اچ و ادغام است. در این زمینه، صنعت الکترونیک شامل مدارهای مجتمع و ماژول‌های چند تراشه‌ای و بسته‌بندی پیشرفته با ویژگی‌هایی در رژیم زیر میکرون است، اما محدود به آن نمی‌شود.

برای فرستادن دیدگاه باید وارد شوید