نمایه | آخرین بروز رسانی |
---|---|
Scopus | فوریه ۲۰۲۲ |
ISI | مارس ۲۰۲۳ |
SCImago | ژانویه ۲۰۲۰ |
ISI Open Access Journals | مارس ۲۰۲۴ |
لیست سیاه وزارت علوم | فروردین ۱۴۰۲ |
لیست سیاه وزارت بهداشت | فروردین ۱۴۰۲ |
لیست سیاه دانشگاه آزاد | بهمن ۱۳۹۹ |
مجلات دارای زمان داوری | ژانویه ۲۰۲۲ |
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش | ژانویه ۲۰۲۲ |
فراخوانهای مقاله | فوریه ۲۰۲۴ |
نمایه | آخرین بروز رسانی |
---|---|
Scopus | ژانویه ۲۰۲۴ |
ISI | نوامبر ۲۰۲۴ |
SCImago | می ۲۰۲۴ |
ISI Open Access Journals | مارس ۲۰۲۴ |
لیست سیاه وزارت علوم | آذر ۱۴۰۳ |
لیست سیاه وزارت بهداشت | فروردین ۱۴۰۳ |
لیست سیاه دانشگاه آزاد | آذر ۱۴۰۱ |
مجلات دارای زمان داوری | ژانویه ۲۰۲۴ |
مجلات درجه بندی شده از نظر سختی پذیرش | ژانویه ۲۰۲۴ |
فراخوانهای مقاله | فوریه ۲۰۲۴ |
Journal Of Micro-nanopatterning Materials And Metrology-jm3
آمریکا | کشور |
۱٫۲۲ | Impact Factor |
1932-5150 | ISSN |
2708-8340 | e-ISSN |
2007 تا کنون | مدت فعالیت |
SPIE | ناشر |
www.spiedigitallibrary.org | سایت مجله |
این مجله در فهرست مجلات Scopus قرار دارد و با نام Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS ثبت شده است. بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:
بر اساس دسته بندی این بنیاد این مجله در دسته Q2 قرار دارد
رشته تخصصی و رتبه مجله در آن رشته:
مجله Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) مقالاتی را در مورد فناوریهای توانمندساز هستهای منتشر میکند که به نیازهای الگوبرداری صنعت الکترونیک میپردازد. حوزههای موضوعی کلیدی شامل علم، توسعه، و عمل فنآوریهای لیتوگرافی، محاسباتی، اچ و ادغام است. در این زمینه، صنعت الکترونیک شامل مدارهای مجتمع و ماژولهای چند تراشهای و بستهبندی پیشرفته با ویژگیهایی در رژیم زیر میکرون است، اما محدود به آن نمیشود.