Microelectronic Engineering

ISI

آخرین بروز رسانی مارس ۲۰۲۳

Scopus

آخرین بروز رسانی فوریه ۲۰۲۲

این مجله در فهرست مجلات Scopus قرار دارد و با نام Microelectronic Engineering ثبت شده است. بر اساس تقسیم بندی این بنیاد مقالات چاپ شده در این مجله در رشته های تخصصی زیر قرار دارند:

SCImago

آخرین بروز رسانی ژانویه ۲۰۲۰

بر اساس دسته بندی این بنیاد این مجله در دسته Q2 قرار دارد

رشته تخصصی و رتبه مجله در آن رشته:

اهداف مجله

Microelectronic Engineering مجله برتری است که بر ساخت و توصیف مواد، دستگاه‌ها و مدارهای میکرو/نانو الکترونیکی (شامل نانومواد الکترونیکی جدید) و همچنین درک مکانیسم‌های کاری، عملکرد، بازده، تغییرپذیری، پایداری و قابلیت اطمینان آنها تمرکز دارد. . این ژورنال همچنین بر تکنیک هایی تمرکز دارد که ساخت و خصوصیات چنین دستگاه ها و مدارهایی را ممکن می سازد و بر مواد درگیر در آنها. گاهی اوقات، مقالات برجسته در مورد شبیه سازی خواص مواد، ارقام برتر دستگاه یا مدل سازی فشرده مدارها و سیستم ها ممکن است پذیرفته شود. موضوعات زیر مورد توجه ویژه است:

دستگاه ها

دستگاه های فوتونیک و نوری (شامل حسگرها، محرک ها، ترانزیستورهای نوری)
ترانزیستورها (شامل فوق مقیاس شده، لایه نازک، آلی، فروالکتریک)
دستگاه های سوئیچینگ مقاومتی (ممریستور، RRAM، PCRAM، FeRAM، MRAM)
دستگاه های مغناطیسی و اسپینترونیک
MEMS و NEMS (شامل قدرت، RF، مغناطیسی، ارگانیک)
دستگاه های الکترونیکی انعطاف پذیر (از جمله پوشیدنی، چاپی، کاغذی)
دستگاه های برداشت انرژی (پیزوالکتریک، فلکسو الکتریک، فتوولتائیک، سلول های خورشیدی)
دستگاه های بیوالکترونیک (تشخیص مولکولی، بیومیمتیک، تشخیص)
شبیه سازی در سطح دستگاه (شامل تنوع و قابلیت اطمینان)

مواد

نیمه هادی های پهن باند
دی الکتریک (K پایین و K بالا)
مواد دو بعدی (2 بعدی) و تکنیک های انتقال مرتبط
نانولوله‌ها، نانوسیم‌ها و سایر نانومواد و نانوساختارها برای ساخت دستگاه‌ها
اتصالات، متالیزاسیون و مواد مانع
مواد مقاوم جدید
سیلیکون روی عایق ها
پلیمرها و بسترهای انعطاف پذیر، از جمله مواد زیست سازگار
شبیه سازی اتمی خواص مواد

فرآیندهای ساخت و شناسایی

تکنیک های رسوب لایه های نازک (CVD، ALD، تبخیر، کندوپاش، MBE، پلاسما)
لیتوگرافی (شامل نوری، EUV، پرتو الکترونی، نانولوله‌سازی، به کمک ذرات، روش‌های نوری اشعه ایکس، روش‌ها و محدودیت‌های نوظهور و همچنین مقاومت‌ها)
انتقال الگو (شامل انتقال یون، پلاسما و تر، و همچنین انتقال مواد دو بعدی)
فرآیندهای یکپارچه سازی (از جمله چاپ جوهر افشان، چاپ سه بعدی، ادغام سه بعدی)
فرآیندهای خودآرایی از بالا به پایین و پایین به بالا
بازپخت و تاثیر آن در مواد (از جمله تبلور، چروک شدن، خیس شدن)
نانومترولوژی (TEM، SEM، EDX، EELS، STM، AFM و تنظیمات مربوطه)

مدارها و کاربردها

سنجش و فعال سازی، از جمله برنامه های کاربردی سازگار با زیستی
ترش کردن و انتقال سیگنال
عملیات منطقی و پردازش داده ها
حافظه های الکترونیکی و ذخیره سازی اطلاعات
شبکه های عصبی مصنوعی و محاسبات نورومورفیک
مدل سازی فشرده مدارهای الکترونیکی
محاسبات کوانتومی

پنج نوع مختلف مقاله در نظر گرفته شده است:

مقاله‌های تحقیقاتی که تحقیقات اصلی منظم را گزارش می‌کنند که پیشرفت چشمگیری ایجاد می‌کند.
انتشارات تسریع شده (نامه ها) که دستاوردهای تحقیقاتی هیجان انگیزی دارند.
مقالاتی را مرور کنید که خوانندگان را از آخرین تحقیقات و پیشرفت‌ها در یک موضوع در زمینه گسترده مهندسی میکروالکترونیک مطلع می‌کند. این شامل نقشه‌های راه و راهنماهایی است که روش‌های پیشنهادی را در یک زمینه خاص پیشنهاد می‌کنند.
یادداشت های کوتاه / فنی در نظر گرفته شده برای تحقیقات محدود اصلی یا شرح مختصری از کار تحقیق و توسعه صنعتی یا مرتبط با صنعتی
اخبار و نظراتی که در مورد موضوعات موضوعی اظهار نظر می کنند یا نظرات خود را در مورد تحولات در زمینه های مرتبط بیان می کنند یا در مورد کارهای منتشر شده قبلی اظهار نظر می کنند.